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曝光系統(tǒng)核心的部件之一是紫外光源。
常見光源分為:
可見光：g線：436nm
紫外光（UV），i線：365nm
深紫外光（DUV）,KrF 準(zhǔn)分子激光：248 nm, ArF 準(zhǔn)分子激光：193 nm
極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
對光源系統(tǒng)的要求
a.有適當(dāng)?shù)牟ㄩL。波長越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波長越短，就表示光刻的刀鋒越鋒利，刻蝕對于精度控制要求越高。]
b.有足夠的能量。能量越大，曝光時(shí)間就越短；
c.曝光能量必須均勻地分布在曝光區(qū)。[一般采用光的均勻度 或者叫 不均勻度 光的平行度等概念來衡量光是否均勻分布]
常用的紫外光光源是高壓弧光燈（高壓汞燈），高壓汞燈有許多尖銳的光譜線，經(jīng)過濾光后使用其中的g 線（436 nm）或i 線（365 nm）。
對于波長更短的深紫外光光源，可以使用準(zhǔn)分子激光。例如KrF 準(zhǔn)分子激光（248 nm）、ArF 準(zhǔn)分子激光（193 nm）和F2準(zhǔn)分子激光（157 nm）等。
曝光系統(tǒng)的功能主要有：平滑衍射效應(yīng)、實(shí)現(xiàn)均勻照明、濾光和冷光處理、實(shí)現(xiàn)強(qiáng)光照明和光強(qiáng)調(diào)節(jié)等。
對準(zhǔn)系統(tǒng)編輯
制造高精度的對準(zhǔn)系統(tǒng)需要具有近乎完美的精密機(jī)械工藝，這也是國產(chǎn)光刻機(jī)望塵莫及的技術(shù)難點(diǎn)之一，許多美國德國品牌光刻機(jī)具有特殊專利的機(jī)械工藝設(shè)計(jì)。例如Mycro N&Q光刻機(jī)采用的全氣動軸承設(shè)計(jì)專利技術(shù)，有效避免軸承機(jī)械摩擦所帶來的工藝誤差。
對準(zhǔn)系統(tǒng)另外一個(gè)技術(shù)難題就是對準(zhǔn)顯微鏡。為了增強(qiáng)顯微鏡的視場，許多高端的光刻機(jī)，采用了LED照明。
對準(zhǔn)系統(tǒng)共有兩套，具備調(diào)焦功能。主要就是由雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡主體、目鏡和物鏡各1對（光刻機(jī)通常會提供不同放大倍率的目鏡和物鏡供用戶組合使用）。
CCD對準(zhǔn)系統(tǒng)作用是將掩模和樣片的對準(zhǔn)標(biāo)記放大并成像于監(jiān)視器上。
工件臺顧名思義就是放工件的平臺，光刻工藝主要的工件就是掩模和基片。
工件臺為光刻機(jī)的一個(gè)關(guān)鍵，由掩模樣片整體運(yùn)動臺（XY）、掩模樣片相對運(yùn)動臺（XY）、轉(zhuǎn)動臺、樣片調(diào)平機(jī)構(gòu)、樣片調(diào)焦機(jī)構(gòu)、承片臺、掩模夾、抽拉掩模臺組成。
其中，樣片調(diào)平機(jī)構(gòu)包括球座和半球。調(diào)平過程中首先對球座和半球通上壓力空氣，再通過調(diào)焦手輪，使球座、半球、樣片向上運(yùn)動，使樣片與掩模相靠而找平樣片，然后對二位三通電磁閥將球座和半球切換為真空進(jìn)行鎖緊而保持調(diào)平狀態(tài)。
樣片調(diào)焦機(jī)構(gòu)由調(diào)焦手輪、杠桿機(jī)構(gòu)和上升直線導(dǎo)軌等組成，調(diào)平上升過程初步調(diào)焦，調(diào)平完成鎖緊球氣浮后，樣片和掩模之間會產(chǎn)生一定的間隙，因此必須進(jìn)行微調(diào)焦。另一方面，調(diào)平完成進(jìn)行對準(zhǔn)，必須分離一定的對準(zhǔn)間隙，也需要進(jìn)行微調(diào)焦。
抽拉掩模臺主要用于快速上下片，由燕尾導(dǎo)軌、定位擋塊和鎖緊手輪組成。
承片臺和掩模夾是根據(jù)不同的樣片和掩模尺寸而進(jìn)行設(shè)計(jì)的。
